Gemeinsames Symposium mit Oblon in Tokio | 2. Juni 2026

Ein herzliches Dankeschön an alle Teilnehmer:innen des diesjährigen Joint Symposium im AP Marunouchi in Tokio zum Thema „U.S. and European patent practice: Important Aspects for Practitioners“ – und natürlich an unsere geschätzten Kolleg:innen von Oblon für die gemeinsame Organisation und Ausrichtung der Veranstaltung.

Es war uns eine große Freude, erneut mit unseren japanischen Mandant:innen und Kolleg:innen über aktuelle Entwicklungen in der US‑amerikanischen und europäischen Patentpraxis zu diskutieren. Das diesjährige Programm konzentrierte sich insbesondere auf:
🔹 die Ausarbeitung KI‑bezogener Anmeldungen für die USA und die Rolle des „written support“,
🔹 aktuelle EPA‑Rechtsprechung zu KI‑Erfindungen und zentrale Punkte für KI‑fokussiertes Drafting,
🔹 neue Entwicklungen und „Überraschungen“ beim USPTO,
🔹 einen Überblick über aktuelle UPC‑Trends, insbesondere den Umgang mit der erfinderischen Tätigkeit und den Vergleich zur EPA‑Praxis,
🔹 die Auslegung von Ansprüchen in den USA und die damit verbundenen Herausforderungen sowie
🔹 die Anspruchsauslegung des EPA nach G 1/24 und mögliche nächste Schritte.

Abseits der Fachsessions wurden die Gespräche beim anschließenden Empfang bei Essen und Getränken in entspannter Atmosphäre fortgeführt.

Wir haben uns sehr gefreut, Mandant:innen und Kolleg:innen wieder in Tokio zu treffen – und freuen uns schon jetzt darauf, unsere Symposiumsreihe in Japan in den kommenden Jahren fortzusetzen.