Gemeinsames Symposium mit Oblon in Tokio | 2. Juni 2026

Oblon und Maiwald freuen sich, Sie zum gemeinsamen internationalen Symposium zum Thema U.S. and European Patent Practice: Important Aspects for Practitioners einzuladen.

Termin und Ort: Dienstag, 2. Juni 2026, 13:00 JST, AP Marunouchi, Tokio

Das Symposium 2026 beleuchtet ausgewählte Themen, die Gemeinsamkeiten und Unterschiede zwischen den US‑ und EU‑Systemen herausarbeiten und praxisnahe Empfehlungen für Anmelderinnen und Anmelder geben, die in beiden Jurisdiktionen optimale Ergebnisse anstreben. Auf dem Programm stehen:

1. Drafting AI applications for the U.S. – written support and more (Edwin Garlepp)
2. Recent EPO case law on AI‑related inventions and key considerations for drafting AI‑related applications (Yasuaki Koshiro)
3. Recent PTO developments in the U.S. – news and surprises (Sameer Gokhale)
4. Update from the Unified Patent Court – selected case law (Derk Vos)
5. U.S. claim construction – always a matter of interpretation (Carl Schlier)
6. EPO claim interpretation after G 1/24 – paving the way to the next referral (Matthias Hoffmann)

Zur Anmeldung: Joint Symposium on US and European Patent Practice – Important Aspects for Practitioners | Oblon, McClelland, Maier & Neustadt, L.L.P. — Intellectual Property Law Firm