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18 Nov. 2025
Die Kanzleien Oblon und Maiwald veranstalteten gemeinsam ein internationales Symposium zum Thema:
U.S. and European Patent Practice – Important Aspects for Practitioners
Wir informierten über die neuesten Entwicklungen und aktuellen Aspekte der IP-Praxis in den USA und Europa. Wie bereits bekannt, haben sowohl das US-amerikanische als auch das europäische Patentsystem ihre jeweiligen Vor- und Nachteile, die nicht immer übereinstimmen. Um mit beiden Systemen die besten Ergebnisse zu erzielen, müssen sich Anmelder aus den USA und Europa der Unterschiede und Besonderheiten zwischen dem US-amerikanischen und dem europäischen Patentsystem bewusst sein.
Bei diesem gemeinsamen Symposium haben wir ausgewählte aktuelle Aspekte der IP-Praxis im Zusammenhang mit der Anmeldung und Durchsetzung von Patenten in den USA und Europa untersucht. Obwohl es Ähnlichkeiten gibt, müssen Anmelder von US-amerikanischen und europäischen Patenten die Besonderheiten und neuesten Entwicklungen in jedem System kennen, um optimale Ergebnisse zu erzielen.
Wichtigen Themen waren:
Referenten: Andrew M. Ollis (Oblon), Naho Fujimoto (Maiwald), Grace E. Kim (Oblon), Attila Kimpan (Maiwald), David M. Longo (Oblon) und Lars Häusler (Maiwald).


Thema
Gemeinsames internationales Symposium mit Oblon am 18. November 2025
Datum:
18 Nov. 2025
Uhrzeit
13:30
Veranstaltungsort:
Sturmfreie Bude Düsseldorf, Georg-Glock-Straße, 40474 Düsseldorf
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