Veranstaltungen

Oblon und Maiwald Symposium zur Patentpraxis in den USA und Europa

Die Kanzleien Oblon und Maiwald freuen sich, Sie zu einem weiteren kostenlosen

Symposium zur Patentpraxis in den USA und Europa

einzuladen.

Das Symposium findet statt:

  1. Tokio: Montag, 3. Juni 2019 im Fukuracia Marunouchi Oazo 
  2. Osaka: Montag, 10. Juni 2019 im Osaka Science & Technology Center

Es werden aktuelle Aspekte der IP-Praxis bezüglich Anmeldeverfahren, Übertragung von Rechten als auch Durchsetzung von Patentrechten in den USA und Europa erläutert. Auch wenn Ähnlichkeiten zwischen beiden Patentsystemen bestehen, sollten Anmelder sich doch der Eigenheiten und Neuerungen des jeweiligen Patentsystems bewusst sein, um die besten Ergebnisse zu erzielen.

In diesem Hinblick werden im Seminar die folgenden aktuellen Themen behandelt:

  1. Praktische Anleitung zu Patentanmeldungen im Bereich Künstlicher Intelligenz (KI) in Europa und den USA, beinhaltend Neuerungen der Richtlinien des Europäischen Patentamts;
  2. Patentverletzung nach der Äquivalenzdoktrin, lange Zeit hauptsächlich ein Thema in den USA, infolge kürzlich ergangener Entscheidungen in Europa wieder zunehmende Relevanz; und
  3. Übertragung von Patentrechten in den USA und Europa, insbesondere im Kontext gemeinschaftlich entwickelter Erfindungen, und die Besonderheiten jedes der Systeme.

Beim Symposium wird serielle Übersetzung vom Englischen ins Japanische angeboten. Nach dem Symposium werden bei einem ungezwungenen Empfang Drinks und Hors d'œuvre serviert.

Wenn Sie teilnehmen möchten, schreiben Sie bitte eine E-Mail unter Angabe Ihres Namens, des Unternehmens und an welchem Ort (Tokio oder Osaka) Sie teilnehmen möchten an patentconference@oblon.com oder events@maiwald.eu. Die Registrierung ist bis zum 10. Mai 2019 möglich. Beachten Sie bitte, dass die Teilnehmerzahl in Tokio auf 100 und in Osaka auf 60 Teilnehmer begrenzt ist.

Wir freuen uns sehr, Sie zu den Vorträgen und dem anschließenden Empfang begrüßen zu dürfen.

Die Einladung zur Veranstaltung finden Sie hier.

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